ASML跌超1% 台積電延後採用最新High-NA EUV

標題: ASML跌超1% 台積電延後採用最新High-NA EUV


作者: 鉅亨網編譯羅昀玫
發表時間: 2026-04-23 07:10:02

台積電 晶片製程 曝光機 ASML A13 N2U 張曉強 High-NA EUV 摩爾定律 封裝 TOP headline

描述: 《路透》週三 (22 日) 報導，台積電展示新一代晶片製程技術，強調在不依賴 ASML 最新一代曝光機設備的情況下，仍可推進晶片微縮並提升運算效能。
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